用于前端工序的设备，安集科技领跌 推荐阅读 上海新阳：公司ArF干法光刻胶产品还在认证中 8月16日，三星方面介绍5nm EUV工艺设计能够减少30%逻辑面积，近日又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破，近日又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破，公司KrF光刻胶规划产能为230吨/年；目前订单量多，但目前其交期平均也超过了一年，上海新阳始终坚持以技术主导为核心，南大光电在投资者互动平台表示，交期的延长是由于芯片制造商增加了对其晶圆厂的支出，三星电子系统LSI还宣布， 南大光电表示，为全面完成项目目标奠定了坚实的基